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INVESTIGATIONS ON MAGNETRON SPUTTERED TANTALUM OXIDE FILMS - S. V. Jagadeesh Chandra|S Uthanna|G Mohan Rao
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S. V. Jagadeesh Chandra|S Uthanna|G Mohan Rao:

INVESTIGATIONS ON MAGNETRON SPUTTERED TANTALUM OXIDE FILMS - Pasta blanda

2011, ISBN: 3843394229

[EAN: 9783843394222], Neubuch, [PU: LAP LAMBERT Academic Publishing], PHYSIK ASTRONOMIE REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING THIN FILMS TANTALUM OXIDE STRUCTURE STOICHIOMETRY ELECTRICAL AND OPTI… Más…

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S. V. Jagadeesh Chandra S Uthanna G Mohan Rao:

INVESTIGATIONS ON MAGNETRON SPUTTERED TANTALUM OXIDE FILMS - Primera edición

2011, ISBN: 9783843394222

Pasta blanda

[ED: Kartoniert / Broschiert], [PU: LAP LAMBERT Academic Publishing], Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. Autor/Autorin: Jagad… Más…

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Jagadeesh Chandra, S. V. Uthanna, S, Mohan Rao, G:
INVESTIGATIONS ON MAGNETRON SPUTTERED TANTALUM OXIDE FILMS: Microelectronic device applications - Pasta blanda

2011

ISBN: 9783843394222

LAP LAMBERT Academic Publishing, Taschenbuch, 188 Seiten, Publiziert: 2011-01-18T00:00:01Z, Produktgruppe: Buch, 0.63 kg, Astronomie, Naturwissenschaften & Technik, Kategorien, Bücher, In… Más…

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S V Jagadeesh Chandra:
Investigations on Magnetron Sputtered Tantalum Oxide Films Microelectronic Device Applications - Pasta blanda

2001, ISBN: 9783843394222

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S. V. Jagadeesh Chandra:
Investigations on Magnetron Sputtered Tantalum Oxide Films - Pasta blanda

2011, ISBN: 3843394229

[EAN: 9783843394222], Neubuch, [PU: LAP Lambert Academic Publishing], PRINT ON DEMAND Book; New; Fast Shipping from the UK., Books

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Detalles del libro
INVESTIGATIONS ON MAGNETRON SPUTTERED TANTALUM OXIDE FILMS: Microelectronic device applications
Autor:
Título:
ISBN:

9783843394222


High permittivity dielectrics are studied intensively in the view of their use in the integrated circuits. However, the real emergence of tantalum oxide (Ta2O5) as a dielectric material happened due to its high-dielectric constant, chemical and thermal stability with the promise of compatibility in microelectronic processing. This book covenants with the optimized deposition conditions of Ta2O5 films formed on quartz and p-type Si substrates using dc and rf reactive magnetron sputtering method for structural and optical studies. Further, aluminum metal deposited as a top electrode on Ta2O5 and Si stack to prepare metal oxide semiconductor device for investigating electrical and dielectric properties. The possible ways for depositing good quality Ta2O5 layers on Si, to obtain high dielectric constant explained in this book are quite useful to prepare high quality metal oxide semiconductor device for capacitor applications.

Detalles del libro - INVESTIGATIONS ON MAGNETRON SPUTTERED TANTALUM OXIDE FILMS: Microelectronic device applications


EAN (ISBN-13): 9783843394222
ISBN (ISBN-10): 3843394229
Tapa dura
Tapa blanda
Año de publicación: 2011
Editorial: LAP LAMBERT Academic Publishing

Libro en la base de datos desde 2009-08-09T02:58:23-05:00 (Mexico City)
Página de detalles modificada por última vez el 2023-07-15T23:15:43-06:00 (Mexico City)
ISBN/EAN: 9783843394222

ISBN - escritura alterna:
3-8433-9422-9, 978-3-8433-9422-2
Mode alterno de escritura y términos de búsqueda relacionados:
Autor del libro: mohan
Título del libro: magnetron, tantalum

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